180 nāi-bí chè-têng

半導體 裝置 製造
MOSFET scaling (process nodes)
010 µm – 1971年 006 µm – 1974年 003 µm – 1977年  1.5 µm – 1981年 001 µm – 1984年 800 nm – 1987年 600 nm – 1990年 350 nm – 1993年 250 nm – 1996年 180 nm – 1999年 130 nm – 2001年 090 nm – 2003年 065 nm – 2005年 045 nm – 2007年 032 nm – 2009年 022 nm – 2012年 014 nm – 2014年 010 nm – 2016年 007 nm – 2018年 005 nm – 2020年
未來 003 nm – ~2022年

180奈米 (nāi-bí)製程 (chè-têng) (英語 (Eng-gí): 180 nm process)，嘛 (mā)號做 (hō-chò)0.18微米 (bî-bí)製程 (0.18 µm process)，是 (sī)半導體 (pòaⁿ-tō-thé)製造 (chè-chō)製程的 (ê)一 (chi̍t)个 (ê)水平 (chúi-pêng)，大約 (tāi-iok)佇 (tī)1999年 (nî)到 (kàu)2000年左右 (chó-iū)達成 (ta̍t-sêng)。這 (Che)是由 (iû)彼當陣 (hit-tang-chūn)的領先 (léng-sian)半導體公司 (kong-si)Intel，Texas Instruments，台積澱 (Tâi-chek-tiān)佮 (kap)IBM所 (só͘)完成 (oân-sêng)。一寡 (Chi̍t-kóa)CPU一開始 (khai-sí)是由這个 (chit-ê)製程所製造。其中 (Kî-tiong)包括 (pau-koat)Intel Pentium III處理器 (chhú-lí-khì)。這是第一 (tē-it)个溝道 (kau-tō)腸肚 (tn̂g-tō͘)比 (pí)提來 (the̍h-lâi)光刻 (kng-khek)的光 (kng)波長 (pho-tn̂g)較 (khah)細 (sè)的製程。